硅单晶是一种可用于制作集成电路和半导体器件等的半导体质料，属于非金属元素，关于探测器级硅单晶、电路级硅单晶等电力电子器件及大功率晶体管都是可将会用到硅单晶，在举行微电子工业的加工历程中需要用到一定要求的纯水，如工业纯水的水质要求没有抵达要求则会对产品的使用造成一定的影响，下面先容关于硅单晶微电子工业用的水处理装备。

 

       该纯水装备可根根电子工业关于纯水的水质要求举行划分，纯水水质电阻率细分到0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm、18.2MΩ.cm等之间。

 

　　电子纯水处理装备由预处理系统、离子交流混床(EDI电除盐系统)系统、RO反渗透主机系统等结构组成主要装备，其中预处理系统可凭证外地的原水水质选择接纳钠离子软化器、细密过滤器、多介质过滤器、活性碳过滤器等工艺。

 

　　水处理装备凭证出水水质分为离子交流树脂、反渗透水处理装备与离子交流装备团结、反渗透装备与电去离子(EDI)装备团结三种主要的水处理工艺。

 

　　硅单晶微电子离子交流手艺工艺流程：进水原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→细密过滤器→中央水箱→反渗透装备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水工具。

 

　　接纳反渗透手艺作为预处理工艺，后续再接纳离子交流手艺，优势在于离子装备再生周期相对要长并且在泯灭的酸碱方面比纯粹接纳离子树脂的方法要少许多。